第709章 深紫外光的多重曝光技术!
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桌面上重重叩了两下。
“别高兴得太早,支持归支持,科学不是请客吃饭。”
老人起身,走到墙边那张巨大的设备分布图前,指着中间一块红色的区域。
“你的方案我看懂了,设计理念确实超前,甚至可以说天才,但你忽略了一个最致命的物理极限——光刻精度。”
“国内现在能动用的最好设备,拼了老命也只能做到零点一八微米,而你这个器件,要把性能拉满,至少得达到零点零九微米。”
零点一八到零点零九。
看似只是几个数字的差距,实则是横亘在华夏半导体工业面前的一道天堑。
许哲的心猛地往下一沉。
前世他虽然是搞金融的,但也对华夏的其他行业一知半解,知道这就是所谓的“摩尔定律”死结。
没有ASML那种顶级的EUV光刻机,想要强行突破物理极限,无异于痴人说梦。
难道真的要死在这里?
不对。
许哲脑中灵光一闪,前世的一篇技术研报突然浮现在脑海。
在EUV光刻机普及之前,尼康和佳能曾经用过一种“笨办法”来延续摩尔定律。
“张老。”
许哲猛地抬头,眼里的光亮得吓人,“如果是死路,我们就换个走法。”
“既然单次曝光达不到精度,能不能放弃传统光刻逻辑,改用深紫外光的多重曝光技术?”
张院士夹烟的手在半空中停住了。
“多重曝光?”
“对!既然波长受限,那我们就用计算换精度。”
“把原本一层光刻的图形拆分成两层甚至三层,利用现有设备的深紫外光源进行多次错位曝光,再通过化学刻蚀修剪。”
“虽然步骤繁琐了三倍,良品率会暴跌,但理论上,这能不能在零点一八的机台上跑出零点零九的效果?”
死寂。
整个办公室安静得只能听见墙上挂钟“咔哒、咔哒”的走字声。
张院士手里的烟燃到了尽头,烫到了指尖他才猛然惊醒。
他像看怪物一样盯着许哲,嘴唇微微哆嗦。
第709章 深紫外光的多重曝光技术!
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